林本堅:10奈米效益繼續努力


圖說:台積電研究發展副總經理暨SEMI 台灣IC委員會主席林本堅表示,展望10奈米以下製程微影技術,最關鍵的仍是,成本效益的考量。

■文:Wa-People/王麗娟Janet Wang
■圖:Wa-People/古榮豐Terry Ku

除了半導體設備與材料市場持續樂觀之外,SEMICON展前記者會中,安謀國際、台積電、日月光、華亞科技、意法半導體等業者代表也針對產業各領域前景和技術發展提出他們的看法。

半導體產業無時無刻都在面臨嚴厲挑戰。多年來摩爾定律被奉為圭臬,形成一種慣性,影響創新的思維。這種慣性必需突破才能但目前的步調已經無法引領產業前進,應該繼續突破現況,以更高規格的標準迎接產業的挑戰。

台積電研究發展副總經理暨SEMI 台灣IC委員會主席林本堅表示:「面臨產業瞬息萬變,持續先進製程的開發是保持領先地位的關鍵。目前在在20奈米製程中所使用的主要是雙重圖像技術(Double patterning)。由於EUV(極紫外光微影)的成本很高,未來在10奈米以下製程中,唯有能完全發揮EUV成本效益的情況下,我們才會使用」。

林本堅強調,MEB(多電子光束無光罩微影)有潛力成為較經濟的技術方案,但需要ASML、Canon 或 Nikon這些大公司,來完成系統整合。